|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
Comparison of dry etching of III-V semiconductors in ICl/Ar and IBr/Ar electron cyclotron resonance plasmas |
| Auteur: |
Lee, J. W. Hong, J. Lambers, E. S. Abernathy, C. R. Pearton, S. J. Hobson, W. S. Ren, F. |
| Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
| Paginering: | Jaargang 26 (1997) nr. 11 pagina's 1314-1319 |
| Jaar: |
1997 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Springer-Verlag, New York |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |