|
Tertiarybutylarsine for Metalorganic Chemical Vapor Deposition Growth of High Purity, High Uniformity Films |
|
|
|
Titel: |
Tertiarybutylarsine for Metalorganic Chemical Vapor Deposition Growth of High Purity, High Uniformity Films |
Auteur: |
Chui, H. C. Biefeld, R. M. Hammons, B. E. Breiland, W. G. Brennan, T. M. Jones, E. D. Moffat, H. K. Kim, M. H. Grodzinski, P. Chang, K. H. Lee, H. C. |
Verschenen in: |
Journal of electronic materials |
Paginering: |
Jaargang 26 (1992) nr. 1 pagina's 37-42 |
Jaar: |
1992 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Springer US, New York |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|