|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 201 van 347 gevonden artikelen
| Titel: |
Mechanism of impurity diffusion in a-Si:H and diffusion blocking by fluorine inclusion |
| Auteur: |
Matsumura, Hideki Sakai, Kunihiro Maeda, Masaaki Furukawa, Seijiro |
| Verschenen in: |
Physica. B+C, Low temperature and solid state physics + Atomic, molecular and plasma physics optics |
| Paginering: | Jaargang 117-118 (1983) nr. P2 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
1983 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 201 van 347 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |