|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 73 van 103 gevonden artikelen
| Titel: |
Rapid thermal processing for simultaneous annealing of shallow implanted junctions and formation of their TiSi2 contacts |
| Auteur: |
Maex, K. De Keersmaecker, R.F. |
| Verschenen in: |
Physica. B+C, Low temperature and solid state physics + Atomic, molecular and plasma physics optics |
| Paginering: | Jaargang 129 (1985) nr. 1-3 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
1985 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 73 van 103 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |