|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 53 van 79 gevonden artikelen
| Titel: |
Optical and electrical properties of hydrogenated amorphous silicon films deposited by tetrode RF sputtering |
| Auteur: |
Gekka, Yasuo Funabashi, Shuitsu Yasumura, Yoichi |
| Verschenen in: |
Applications of surface science |
| Paginering: | Jaargang 11-12 (1982) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
1982 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 53 van 79 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |