|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 46 gevonden artikelen
| Titel: |
Heat capacities, entropies, and Gibbs free energies of formation of low-k amorphous Si(O)CH dielectric films and implications for stability during processing |
| Auteur: |
Chen, Jiewei Calvin, Jason Asplund, Megan King, Sean W. Woodfield, Brian F. Navrotsky, Alexandra |
| Verschenen in: |
Journal of chemical thermodynamics |
| Paginering: | Jaargang 128 (2019) nr. C pagina's 320-335 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 46 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |