|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Development of model predictive control of fluorine density in SF6/O2/Ar etch plasma by oxygen flow rate |
| Auteur: |
Ryu, Sangwon Kwon, Ji-Won Park, Jihoon Lee, Ingyu Park, Seolhye Kim, Gon-Ho |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 36 () nr. C pagina's 183-186 |
| Jaar: |
2022 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Korean Physical Society |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |