|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 31 gevonden artikelen
| Titel: |
First-principles calculations of precursor adsorption on substrate during atomic layer deposition: The example of SiO2 deposition using tris(dimethylamino)silane |
| Auteur: |
Kang, Youngho |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 31 () nr. C pagina's 228-231 |
| Jaar: |
2021 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Korean Physical Society |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 31 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |