|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 24 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of Al2O3 deposition on carrier mobility and ambient stability of few-layer MoS2 field effect transistors |
| Auteur: |
Ryu, Jong Hwa You, Young Gyu Kim, Sung Won Hong, Jun Ho Na, Jeong Hyeon Jhang, Sung Ho |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 20 () nr. 2 pagina's 363-365 |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Korean Physical Society |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 24 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |