|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Optimized annealing conditions to enhance stability of polarization in sputtered HfZrOx layers for non-volatile memory applications |
| Auteur: |
Kim, Yeriaron Woo, Jiyong Im, Solyee Lee, Yeseul Kim, Jeong Hun Im, Jong-Pil Suh, Dongwoo Yang, Sang Mo Yoon, Sung-Min Moon, Seung Eon |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 20 () nr. 12 pagina's 1441-1446 |
| Jaar: |
2020 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
The Authors |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |