|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
The interfacial reaction between ITO and silicon nitride deposited by PECVD in fringe field switching device |
| Auteur: |
Son, Kyoung Seok Lim Choi, Dae Nyeon Lee, Ho Geon Lee, Won |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 2 (2002) nr. 3 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 16 gevonden artikelen
| << vorige |