Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
   volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 1 van 13 gevonden artikelen
 
 
  Analytical prediction for depth of subsurface damage in silicon wafer due to self-rotating grinding process
 
 
Titel: Analytical prediction for depth of subsurface damage in silicon wafer due to self-rotating grinding process
Auteur: Zhang, Lixiang
Chen, Pei
An, Tong
Dai, Yanwei
Qin, Fei
Verschenen in: Current applied physics
Paginering: Jaargang 19 (2019) nr. 5 pagina's 570-581
Jaar: 2019
Inhoud:
Uitgever: Korean Physical Society
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 1 van 13 gevonden artikelen
 
   volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland