|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Chemical, optical, and electrical characterization of Ga2O3 thin films grown by plasma-enhanced atomic layer deposition |
| Auteur: |
Li, Xing Lu, Hong-Liang Ma, Hong-Ping Yang, Jian-Guo Chen, Jin-Xin Huang, Wei Guo, Qixin Feng, Ji-Jun Zhang, David Wei |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 19 (2019) nr. 2 pagina's 72-81 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Korean Physical Society |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |