|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Investigation of interface characteristics of Al2O3/Si under various O2 plasma exposure times during the deposition of Al2O3 by PA-ALD |
| Auteur: |
Min, Kwan Hong Choi, Sungjin Jeong, Myeong Sang Kang, Min Gu Park, Sungeun Song, Hee-eun Lee, Jeong In Kim, Donghwan |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 19 (2019) nr. 2 pagina's 155-161 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Korean Physical Society |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |