|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Crystallization annealing effects on ferroelectric properties of Al-Doped HfO2 thin film capacitors using indium–tin–oxide electrodes |
| Auteur: |
Ryu, Tae-Hyun Yoon, So-Jung Na, So-Yeong Yoon, Sung-Min |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 19 (2019) nr. 12 pagina's 1383-1390 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Korean Physical Society |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |