|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 13 gevonden artikelen
| Titel: |
Characteristics of a plasma information variable in phenomenology-based, statistically-tuned virtual metrology to predict silicon dioxide etching depth |
| Auteur: |
Jang, Yunchang Roh, Hyun-Joon Park, Seolhye Jeong, Sangmin Ryu, Sanywon Kwon, Ji-Won Kim, Nam-Kyun Kim, Gon-Ho |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 19 (2019) nr. 10 pagina's 1068-1075 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 13 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |