|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 24 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of thermal annealing sequence on the crystal phase of HfO2 and charge trap property of Al2O3/HfO2/SiO2 stacks |
| Auteur: |
Na, Heedo Jeong, Juyoung Lee, Jimin Shin, Hyunsu Lee, Sunghoon Sohn, Hyunchul |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 17 (2017) nr. 10 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 24 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |