|
| volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 1 van 40 gevonden artikelen
| Titel: |
Application of rapid thermal process to solution-processed Ti-silicate films for enhancing permittivity without losing amorphous nature |
| Auteur: |
Lee, Seung Muk Hwang, Soo Min Hwang, Soon Yong Kim, Tae Woong Choi, Ju Yun Park, Joong Keun Kim, Tae Jung Kim, Young Dong Kim, Hyoungsub Lim, Jun Hyung Joo, Jinho |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 13 (2013) nr. S2 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2013 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 1 van 40 gevonden artikelen
| volgende >> |