|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 40 van 43 gevonden artikelen
| Titel: |
The electrical properties of dielectric stacks of SiO2 and Al2O3 prepared by atomic layer deposition method |
| Auteur: |
Han, Byeol Lee, Seung-Won Park, Kwangchol Park, Chong-Ook Rha, Sa-Kyun Lee, Won-Jun |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 12 (2012) nr. 2 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
2012 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 40 van 43 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |