|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 44 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of ammonia (NH3) plasma treatment on silicon nitride (SiNx) gate dielectric for organic thin film transistor with soluble organic semiconductor |
| Auteur: |
Kim, DongWoo Kim, DooHyun Kim, HyoungJin So, HyunWook Hong, MunPyo |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 11 (2011) nr. 5S pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2011 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 44 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |