|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 37 van 83 gevonden artikelen
| Titel: |
Hydrogenated amorphous silicon film as intrinsic passivation layer deposited at various temperatures using RF remote-PECVD technique |
| Auteur: |
Jeon, Minsung Yoshiba, Shuhei Kamisako, Koichi |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 10 (2010) nr. 2S pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 37 van 83 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |