|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 44 van 66 gevonden artikelen
| Titel: |
Nonselective vertical etching of GaAs and AlGaAs/GaAs in high pressure capacitively coupled BCl3/N2 plasmas |
| Auteur: |
Kim, J.K. Lee, J.H. Joo, Y.W. Park, Y.H. Noh, H.S. Lee, J.W. Pearton, S.J. |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 10 (2010) nr. 2 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 44 van 66 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |