|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 8 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Electrical properties of HfO2 charge trap flash memory with SiO2/HfO2/Al2O3 engineered tunnel layer |
| Auteur: |
Oh, Se-Man You, Hee-wook Kim, Kwan-Su Lee, Young-Hie Cho, Won-Ju |
| Verschenen in: |
Current applied physics |
| Paginering: | Jaargang 10 (2010) nr. 1S pagina's nvt p. |
| Jaar: |
2010 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 8 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |