|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 24 gevonden artikelen
| Titel: |
Diffusion of hydrogen atoms in silicon layers deposited from molecular beams on dielectric substrates |
| Auteur: |
Chizh, Kirill V. Arapkina, Larisa V. Stavrovsky, Dmitry B. Gaiduk, Peter I. Yuryev, Vladimir A. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 99 (2019) nr. C pagina's 78-84 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 24 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |