|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 36 van 51 gevonden artikelen
| Titel: |
Properties of Al2O3 thin films deposited on 4H-SiC by reactive ion sputtering |
| Auteur: |
Fiorenza, P. Vivona, M. Di Franco, S. Smecca, E. Sanzaro, S. Alberti, A. Saggio, M. Roccaforte, F. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 93 (2019) nr. C pagina's 290-294 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 36 van 51 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |