|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 9 van 16 gevonden artikelen
| Titel: |
High aspect ratio anisotropic silicon etching for x-ray phase contrast imaging grating fabrication |
| Auteur: |
Finnegan, Patrick S. Hollowell, Andrew E. Arrington, Christian L. Dagel, Amber L. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 92 (2019) nr. C pagina's 80-85 |
| Jaar: |
2019 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 9 van 16 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |