|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 33 van 51 gevonden artikelen
| Titel: |
Photoelectron spectroscopy (XPS) and photoelectron diffraction (XPD) studies on the system hafnium silicide and hafnium oxide on Si(100) |
| Auteur: |
Weier, D. Flüchter, C. de Siervo, A. Schürmann, M. Dreiner, S. Berges, U. Carazzolle, M.F. Pancotti, A. Landers, R. Kleiman, G.G. Westphal, C. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 9 (2006) nr. 6 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 33 van 51 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |