|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 3 van 51 gevonden artikelen
| Titel: |
Behaviour of injected electrons in high-k dielectric layers |
| Auteur: |
Avichail-Bibi, R. Kiv, A. Maximova, T. Roizin, Y. Fuks, D. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 9 (2006) nr. 6 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2006 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 3 van 51 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |