|
| << vorige |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 34 van 34 gevonden artikelen
| Titel: |
Yttrium oxide film for protecting quartz glass surface from etching by long-term exposure to chlorine trifluoride gas at room temperature |
| Auteur: |
Kawasaki, Ryohei Umetsu, Yasuhiro Kurashima, Keisuke Shioda, Kohei Hirooka, Asumi Habuka, Hitoshi |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 83 (2018) nr. C pagina's 211-215 |
| Jaar: |
2018 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 34 van 34 gevonden artikelen
| << vorige |