|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 83 gevonden artikelen
| Titel: |
Electrical properties of W delta doped Si epitaxial films grown on Si(100) by ultraclean low-pressure chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Kurosawa, Takehisa Komatsu, Tomoyuki Sakuraba, Masao Murota, Junichi |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 8 (2005) nr. 1-3 pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2005 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 83 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |