|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 21 gevonden artikelen
| Titel: |
Parallel langmuir processes for silicon epitaxial growth in a SiHCl3-SiH x -H2 system |
| Auteur: |
Watanabe, Toru Yamada, Ayami Saito, Ayumi Sakurai, Ayumi Habuka, Hitoshi |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 72 (2017) nr. C pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 21 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |