|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 21 van 52 gevonden artikelen
| Titel: |
Fundamentals of Ge1−xSnx and SiyGe1−x-ySnx RPCVD epitaxy |
| Auteur: |
Margetis, Joe Mosleh, Aboozar Ghetmiri, Seyed Amir Al-Kabi, Sattar Dou, Wei Du, Wei Bhargava, Nupur Yu, Shui-Qing Profijt, Harald Kohen, David Loo, Roger Vohra, Anurag Tolle, John |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 70 (2017) nr. C pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 21 van 52 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |