Digitale Bibliotheek
Sluiten Bladeren door artikelen uit een tijdschrift
 
<< vorige    volgende >>
     Tijdschrift beschrijving
       Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
         Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
           Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
                                       Details van artikel 15 van 17 gevonden artikelen
 
 
  Sub-100nm T-gate fabrication using a positive resist ZEP520/P(MMA-MAA)/PMMA trilayer by double exposure at 50kV e-beam lithography
 
 
Titel: Sub-100nm T-gate fabrication using a positive resist ZEP520/P(MMA-MAA)/PMMA trilayer by double exposure at 50kV e-beam lithography
Auteur: Kim, S.C
Lim, B.O
Lee, H.S
Shin, D.-H
Kim, S.K
Park, H.C
Rhee, J.K
Verschenen in: Materials science in semiconductor processing
Paginering: Jaargang 7 (2004) nr. 1-2 pagina's 5 p.
Jaar: 2004
Inhoud:
Uitgever: Elsevier Ltd
Bronbestand: Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften
 
 

                             Details van artikel 15 van 17 gevonden artikelen
 
<< vorige    volgende >>
 
 Koninklijke Bibliotheek - Nationale Bibliotheek van Nederland