|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 17 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Morphology improvement of SiC trench by inductively coupled plasma etching using Ni/Al2O3 bilayer mask |
| Auteur: |
Li, Jingjie Cheng, Xinhong Wang, Qian Zheng, Li Shen, Lingyan Li, Xinchang Zhang, Dongliang Zhu, Hongyue Shen, DaShen Yu, Yuehui |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 67 (2017) nr. C pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 17 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |