|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 15 van 23 gevonden artikelen
| Titel: |
Influence of nitridation process on characteristics of N-polar AlGaN films grown by MOCVD |
| Auteur: |
Wang, Xiaolei Zhang, Xiong Zhang, Heng Zhao, Jianguo Wu, Zili Dai, Qian Wang, Shuchang Hu, Guohua Cui, Yiping |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 64 (2017) nr. C pagina's 5 p. |
| Jaar: |
2017 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 15 van 23 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |