|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 7 van 13 gevonden artikelen
| Titel: |
Effect of O2/CHF3 plasma treatment on n-type GaN grown on sapphire by MOCVD |
| Auteur: |
Qin, Z.X. Chen, Z.Z. Zhang, H.X. Ding, X.M. Hu, X.D. Yu, T.J. Tong, Y.Z. Zhang, G.Y. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 5 (2002) nr. 6 pagina's 3 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 7 van 13 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |