|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 42 gevonden artikelen
| Titel: |
Characterization of low-k porous silica films incorporated with alkylene groups |
| Auteur: |
Uchida, Y. Katoh, T. Oikawa, M. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 5 (2002) nr. 2-3 pagina's 6 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 42 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |