|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 2 van 42 gevonden artikelen
| Titel: |
Anisotropic deposition of copper by H-assisted plasma chemical vapor deposition |
| Auteur: |
Takenaka, Kosuke Shiratani, Masaharu Onishi, Masao Takeshita, Manabu Kinoshita, Toshio Koga, Kazunori Watanabe, Yukio |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 5 (2002) nr. 2-3 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
2002 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 2 van 42 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |