|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 12 van 15 gevonden artikelen
| Titel: |
The use of interface-sensitive test structure comprising of shallow trench isolation as a tool for analyzing the quality of Si–SiO2 interfaces |
| Auteur: |
Kaminski, Yelena Shauly, Eitan Paz, Yaron |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 44 (2016) nr. C pagina's 7 p. |
| Jaar: |
2016 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 12 van 15 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |