|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 14 van 25 gevonden artikelen
| Titel: |
Oxygen partial pressure and thermal annealing dependent properties of RF magnetron sputtered TiO2−x films |
| Auteur: |
Reddy, Y. Ashok Kumar Kang, In-ku Shin, Young Bong Lee, Hee Chul Reddy, P. Sreedhara |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 32 (2015) nr. C pagina's 10 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 14 van 25 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |