|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 41 van 99 gevonden artikelen
| Titel: |
Investigations on phosphorus doped amorphous/nanocrystalline silicon films deposited by a filtered cathodic vacuum arc technique in the presence of hydrogen gas |
| Auteur: |
Kesarwani, A.K. Panwar, O.S. Tripathi, R.K. Dalai, M.K. Chockalingam, Sreekumar |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 31 (2015) nr. C pagina's 9 p. |
| Jaar: |
2015 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 41 van 99 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |