|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 5 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
Atomistic modeling of chemical vapor deposition: silicon nitride CVD from dichlorosilane and ammonia |
| Auteur: |
Bagatur’yants, A.A Novoselov, K.P Safonov, A.A Savchenko, L.L Cole, J.V Korkin, A.A |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 3 (2000) nr. 1-2 pagina's 23-29 |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Published by Elsevier B.V. |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 5 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |