|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 19 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
Oxidation mechanism of fluorocarbon-incorporated silica for interlayer dielectric materials |
| Auteur: |
Sugahara, Satoshi Fukumura, Tatsuya Matsumura, Masakiyo |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 3 (2000) nr. 1-2 pagina's 79-84 |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 19 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |