|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 16 van 22 gevonden artikelen
| Titel: |
Modeling of SiGe deposition using quantum chemistry techniques for detailed kinetic analysis |
| Auteur: |
Hierlemann, M. Werner, C. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 3 (2000) nr. 1-2 pagina's 31-39 |
| Jaar: |
2000 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 16 van 22 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |