|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 4 van 11 gevonden artikelen
| Titel: |
Electroless copper deposition solution induced chemical changes in low-k fluorinated dielectrics |
| Auteur: |
Hsu, D.T. Shi, F.G. Lopatin, S. Shacham-Diamand, Y. Zhao, B. Brongo, M. Vasudev, P.K. |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 2 (1999) nr. 1 pagina's 4 p. |
| Jaar: |
1999 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Science Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 4 van 11 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |