|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 6 van 70 gevonden artikelen
| Titel: |
Analysis of the critical role and underlying mechanism of acetic acid in improving the chemical mechanical polishing efficiency of gallium nitride |
| Auteur: |
Xian, Wenhao Zhang, Baoguo Liu, Shitong Wang, Yijun Qin, Sihui Liu, Yang |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 198 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 6 van 70 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |