|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 51 van 70 gevonden artikelen
| Titel: |
Post-implantation annealing effects of Al-implanted p-type junction on specific contact resistance and temperature coefficient of resistance in 4H-SiC metal‐oxide‐semiconductor field effect transistors |
| Auteur: |
Choi, Kyeong-Keun Kim, Seongjeen Kim, Sung-Kyu Kim, Seongjun Park, Young Jae Kang, Dae-Hwan |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 198 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 51 van 70 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |