|
| << vorige | volgende >> |
Tijdschrift beschrijving
Alle jaargangen van het bijbehorende tijdschrift
Alle afleveringen van het bijbehorende jaargang
Alle artikelen van de bijbehorende aflevering
Details van artikel 43 van 70 gevonden artikelen
| Titel: |
Multidimensional validation of low-damage BCl 3 /Ar atomic layer etching for AlGaN/GaN HEMTs |
| Auteur: |
Gao, Boxuan Zhu, Jiejie Li, Mengdi Qin, Lingjie Qian, Yuchen Huang, Simei Li, Huilin Liao, Wanshuo Ma, Xiaohua |
| Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
| Paginering: | Jaargang 198 () nr. C pagina's p. |
| Jaar: |
2025 |
| Inhoud: | |
| Uitgever: |
Elsevier Ltd |
| Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
Details van artikel 43 van 70 gevonden artikelen
| << vorige | volgende >> |