|
Effect of aminoguanidine hydrochloride on chemical mechanical polishing of Ta-based barrier layers on TSV wafers |
|
|
|
Titel: |
Effect of aminoguanidine hydrochloride on chemical mechanical polishing of Ta-based barrier layers on TSV wafers |
Auteur: |
Zhu, Yu Wang, Ru Chen, Xuhua Du, Zhanjie Liang, Zhe Zheng, Tao Dong, Yanwei Chen, Yang Yang, Peng Shi, Yunhui |
Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
Paginering: |
Jaargang 196 () nr. C pagina's p. |
Jaar: |
2025 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|