|
Effects of a 50 nm AlN intermediate layer on the properties of Al 1-x Sc x N films with varying Sc concentrations |
|
|
|
Titel: |
Effects of a 50 nm AlN intermediate layer on the properties of Al 1-x Sc x N films with varying Sc concentrations |
Auteur: |
Zhu, Huanneng Wu, Jin Yang, Zhenhuai Guo, Kesheng Liu, Jing Zhang, Chuandong Bai, Jie Liu, Hong Hu, Qiang Wang, Qiang |
Verschenen in: |
Materials science in semiconductor processing |
Paginering: |
Jaargang 194 () nr. C pagina's p. |
Jaar: |
2025 |
Inhoud: |
|
Uitgever: |
Elsevier Ltd |
Bronbestand: |
Elektronische Wetenschappelijke Tijdschriften |
|
|
|
|